* isep,** berkeley wireless research center, ucb, ftfc mai 2003 paris 1 modélisation du délai...

21
* ISEP,** Berkeley Wireless Research Center, UCB, FTFC Mai 2003 Paris 1 Modélisation du Modélisation du délai d’une porte délai d’une porte CMOS SOI en faible CMOS SOI en faible inversion inversion Alexandre VALENTIAN * Olivier THOMAS * Andrei VLADIMIRESCU *,** Amara AMARA * FTFC 15/05/2003

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Page 1: * ISEP,** Berkeley Wireless Research Center, UCB, FTFC Mai 2003 Paris 1 Modélisation du délai d’une porte CMOS SOI en faible inversion Alexandre VALENTIAN

* ISEP,** Berkeley Wireless Research Center, UCB, FTFC Mai 2003 Paris

1

Modélisation du délai d’une Modélisation du délai d’une porte CMOS SOI en faible porte CMOS SOI en faible

inversioninversionAlexandre VALENTIAN *

Olivier THOMAS *

Andrei VLADIMIRESCU *,**

Amara AMARA *

FTFC 15/05/2003

Page 2: * ISEP,** Berkeley Wireless Research Center, UCB, FTFC Mai 2003 Paris 1 Modélisation du délai d’une porte CMOS SOI en faible inversion Alexandre VALENTIAN

FTFC Mai 2003 Paris 2

PlanPlan

Présentation du modèle sous-seuilDérivation du délai

transition rapide en entréetransition lente en entrée

Application à un oscillateur en anneaux

Conclusion

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FTFC Mai 2003 Paris 3

0 VT0 VGS

IL

LOG(IDS)

W.I0

W0

S

'

'110ln

OX

D

C

C

q

TKS

IIDSDS=f(=f(VVGSGS))

S

VV

W

IWVI

TGS

O

OGSDS

0

10)(

• IDS est exprimée en fonction de:

– Densité de courant d0=I0/W0 à VT0

– Pente sous le seuil

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FTFC Mai 2003 Paris 4

IL

IL’

0 VTW VT0 VGS

LOG(IDS)

S’

S

W.d0

VT

S

VV

dWVVI

TwGS

BSGSDS 10),( 0

TTTW VVV 0

'

'110ln

OX

D

C

C

q

TKS

IIDSDS=f(=f(VVBBSS))

BSF

siAD

V

NqC

22

'0

• Le substrat flottant modifie VT0 et S– Paramètres: (ajustement)NA (procédé)

– Constantes: F

Facteur Potentiel Paramètrede substrat de surface d’ajustement

FBSFT VV 212

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FTFC Mai 2003 Paris 5

IIDSDS=f(=f(VVDDSS))Canal longCanal long

)exp(1)(TH

DS

SSDSDSV

mVIVI

Paramètre d ’ajustement

S

VV

dWI

TwGS

SS 100

avec:

-9

-9

-9

-9

-9

-8

-8

-2 10

0

2 10

4 10

6 10

8 10

1 10

1.2 10

1.4 10-8

-0.1 0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5

Ids(Vds) pour un transistor à canal long

Vds (V)

Partie pseudo-saturéePartie pseudo-linéaire

• Indépendant de VDS

en pseudo-saturation

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FTFC Mai 2003 Paris 6

IIDSDS=f(=f(VVDDSS))Canal courtCanal court

DSTH

DS

SSDSDS VaV

mVIVI

)exp(1)(

• ISS est le courant de pseudo-saturation pour un transistor à canal long

• ISS est la pente du courant IDS pour les transistors à canal court

• aISS représente l ’ordonnée à l ’origine

-5 10 -9

0

5 10 -9

1 10 -8

1.5 10 -8

2 10-8

2.5 10 -8

3 10 -8

-0.1 0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5

Ids(Vds) pour un transistor à canal court

Vds (V)

ISS0

ISS1

a·ISS1

a·ISS0

·ISS1

·ISS0

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FTFC Mai 2003 Paris 7

Le ModèleLe Modèle

Dépendances en VGS et VBS

Partie pseudo-linéaire

Partie pseudo- saturée

DSTH

DS

TwGS

DSBSGSDS VaV

mVS

VV

dWVVVI

)exp(110)( 0,,

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FTFC Mai 2003 Paris 8

Extraction des paramètresExtraction des paramètres

• Le modèle possède 5 paramètres:

– 1 paramètre du procédé NA F

– 4 paramètres d ’ajustement a, m, • IDS(VGS,VDS=VDD,VBS=0)

– I0 = f(VT0,W0) définit la densité de courant de référence

• IDS(VGS,VDS=VDD, VBS)– = f(VT0,VT’) définit le courant ISS de saturation

• IDS(VGS=VDD,VDS,VBS=0)– Extraction de a et ajustement de IDS(VDS)

S

VV

W

IWVI

TGS

O

OGSSS

0

10)(

0 VDS

IDS ISS.(a+.VDS)

a

IL

0 VTw VT0 VGS

LOG(IDS)

W.I0

W0

S

IL’

S

VV

W

IWVVI

TWGS

O

OBSGSSS 10)( ,

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FTFC Mai 2003 Paris 9

Comparaison du modèle avec la technologie Comparaison du modèle avec la technologie

PD SOI 0.25µmPD SOI 0.25µm

10-13

10-12

10-11

10-10

10-9

10-8

10-7

10-6

10-5

-0.1 0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6

Ids versus Vgs

Vbs=0 spiceVbs=0.2 spiceVbs=0.4 spiceVbs=0 modelVbs=0.2 modelVbs=0.4 model

Vgs (V)

-5 10-9

0

5 10-9

1 10-8

1.5 10-8

2 10-8

2.5 10-8

-0.1 0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5

Ids en fonction de Vds

Vbs=0 EldoVbs=0.3 EldoVbs=0 modèle

Vbs=0.3 modèle

Vds (V)

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FTFC Mai 2003 Paris 10

PlanPlan

Présentation du modèle sous-seuilDérivation du délai

transition rapide en entréetransition lente en entrée

Application à un oscillateur en anneaux

Conclusion

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FTFC Mai 2003 Paris 11

Transition rapide de l’entréeTransition rapide de l’entrée

DD

DDth

nsat

n

DD

DD

V

V

outnV

V

SS

outtot

V

V outD

outtotHL

VaeI

dVC

VI

dVCtp

5.05.0

1

• Temps de propagation (tpHL):

– Les effets du transistor PMOS peuvent être négligés

– Ctot représente la somme de la charge et de la

capacité de sortie de l’inverseur

VDD

OutIn

Ctot

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FTFC Mai 2003 Paris 12

Temps de propagation Temps de propagation ttPHLPHL, t, tPLHPLH

• Temps de propagation d’un inverseur CMOS:

HLtpSSn

totHL A

I

Ctp

DDpn

DDpn

V

V

pn

tp Va

Va

e

A

th

pnsatLHHL 5.0log

1

1

,

,

,

,)(

LHtpSSp

totLH A

I

Ctp

BS

BSTWGS

VS

VVV

GSBSSS dWVVI 10),( 0

0

5 10-9

1 10-8

1.5 10-8

2 10-8

2.5 10-8

3 10-8

-0.05 0 0.05 0.1 0.15 0.2 0.25 0.3 0.35

ISS(VBS)

ModelSpice

VBS

VDD

=0.3V

WN=2µm

VDS

=VDD

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FTFC Mai 2003 Paris 13

Dépendances de CDépendances de CLL et de V et de VBSBS

tpHL calculé simulétpLH calculé simulé

10 50 1000

2

4

6

8

10

Dél

ai ( s

)

Charge (fF)

tpHL calculé simulétpLH calculé simulé

|VBS

|

0 0.1 0.2 0.30

0.2

0.4

0.6

0.8

1

1.2

1.4

VDD

=0.3V

CL=10fF

tem

ps

de p

rop

agat

ion

( s

)

• Le temps de propagation a une dépendance linéaire de la charge et une dépendance exponentielle de VBS

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FTFC Mai 2003 Paris 14

PlanPlan

Présentation du modèle sous-seuilDérivation du délai

transition rapide en entréetransition lente en entrée

Application à un oscillateur en anneaux

Conclusion

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FTFC Mai 2003 Paris 15

Transition lente de l’entréeTransition lente de l’entrée

• dans la partie I, VDSP est petit donc on néglige IP

• dans la partie II, VGSP est petit donc on néglige également IP

• le courant du PMOS est 2 ordres de grandeur plus faible que celui du NMOS

-0.1

0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

Vin

Vout

IS(PMOS)

ID(NMOS)

temps (µs)

-0.1 0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6

-20

0

20

40

60

80

100

courant (nA)

tens

ion

(V)

VDSP VGSP

I II

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FTFC Mai 2003 Paris 16

Temps de propagation Temps de propagation ttPHLPHL

• On néglige les effets du transistor PMOS:

dt

dVCVtI OUT

OUTD ,

2

0

10

DD

DD

n

V

V OUTnn

OUTt

S

kt

n Va

dVCdtA

12log)10log(

log10DDnn

DDnn

nnn

n

Va

Va

SA

Ck

k

St

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FTFC Mai 2003 Paris 17

Variation du temps de propagation Variation du temps de propagation avec l’entréeavec l’entrée

0

5 10-8

1 10-7

1.5 10-7

2 10-7

2.5 10-7

0 100 200 300 400 500 600

tpHL calculé simulétpLH calculé simulé

Temps de transition de l’entrée (ns)

VDD

=0.5V

WP/W

N=0.7

CL=10fF

Dél

ai (

s)

k

V

Va

Va

SA

Ck

k

Stp DD

DDpp

DDpp

ppp

pLH 2

12log)10log(

log10

k

V

Va

Va

SA

Ck

k

Stp DD

DDnn

DDnn

nnn

nHL 2

12log10log

log10

• temps de propagation tPHL:

• temps de propagation tPLH:

• le temps de propagation dépend linéairement de la vitesse de transition de la tension d ’entrée

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FTFC Mai 2003 Paris 18

PlanPlan

Présentation du modèle sous-seuilDérivation du délai

transition rapide en entréetransition lente en entrée

Application à un oscillateur en anneaux

Conclusion

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FTFC Mai 2003 Paris 19

Oscillateur en anneauxOscillateur en anneaux

• l’oscillateur en anneaux est composé de 10 inverseurs et d’une porte Nand pour démarrer les oscillations

• les performances de l’oscillateur sont obtenues, à partir du modèle, en additionnant les temps tPLH et tPHL calculés pour une transition rapide de l’entrée

• les performances intrinsèques de la technologie SOI 0.25µm dépendent exponentiellement de la tension d ’alimentation

10-8

10-7

10-6

10-5

0.25 0.3 0.35 0.4 0.45 0.5 0.55

SpiceModèle

VDD (V)

WP/W

N=0.7

Tem

ps (

s)

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FTFC Mai 2003 Paris 20

PlanPlan

Présentation du modèle sous-seuilDérivation du délai

transition rapide en entréetransition lente en entrée

Application à un oscillateur en anneaux

Conclusion

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FTFC Mai 2003 Paris 21

ConclusionConclusion

• A partir d’un modèle sous-seuil simple incluant les dépendances en VGS, VBS et VDS, les équations du délai d’un inverseur ont été dérivées.

• Le temps de propagation obtenu prend en compte l’influence de la vitesse de transition de la tension d’entrée.

• Les résultats montrent une variation linéaire du délai avec la charge en sortie et la pente en entrée et une variation exponentielle avec la tension VBS.

• Appliqués à une structure d’oscillateur en anneaux, on note que les performances intrinsèques de la technologie SOI 0.25µm varient exponentiellement avec la tension d’alimentation.

• Les résultats obtenus sont en bonne concordance avec les simulations.